SANBLASTER初級

首先看一下效果圖。

　　　首先建立一個(gè)場景，這個(gè)場景要包括文字、燈光、背景以及sb粒子的發(fā)射物體，還有粒子的替身物體。別忘了攝像機(jī)。其中文字、發(fā)射物體和粒子替身是最重要的。

　　　首先在top試圖建立一個(gè)文字，寫入你喜歡的文字，調(diào)整適當(dāng)大小。某些場景受尺寸的影響比較大，而本例則無所謂了。當(dāng)然一個(gè)合適舒服的尺寸會(huì)有助于你的操作。

　　　本例中字體設(shè)為bookman old style bold，大小為100，kerning（字間距）為10。架設(shè)攝像機(jī)，把透視圖切換為相機(jī)視圖，打開安全框（safe frame），把render面板中的output size設(shè)為35mm 1.85：1 cine，這是世界上最常用的電影畫面橫縱比。調(diào)整攝像機(jī)如圖，注意文字最好不要超出第2個(gè)框（action safe aera）。

現(xiàn)在文字還是spline，要把它變成面，這一步如果想做的簡單些，可以直接右鍵轉(zhuǎn)換為polygon。

　　　但是這樣做的效果并不好，因?yàn)閟anblaster將物體轉(zhuǎn)化為粒子實(shí)際上是將物體拆為mesh然后講一個(gè)個(gè)面逐漸刪去，而拆分的依據(jù)就是物體的頂點(diǎn)。如果直接把文字轉(zhuǎn)成多邊形，那么最后你會(huì)看到文字消除的效果很不細(xì)膩，而且在viewport預(yù)覽的時(shí)候會(huì)非常慢。所以如果你手快已經(jīng)直接轉(zhuǎn)為polygon的話，請返回上一步照我下面的方法作。

　　　在top視窗建立一個(gè)平面，段數(shù)設(shè)高一些（比如20，50），把平面和文字的x、y坐標(biāo)對齊，保持平面為選擇狀態(tài)，進(jìn)入compound objects面板，選擇shapemerge，pick文字。然后右鍵轉(zhuǎn)換為polygon，進(jìn)入polygon層級，可以看到文字范圍內(nèi)的面已經(jīng)處于選中狀態(tài)，反選刪除掉其他的面。

在如圖的位置建立一個(gè)物體，大小形狀不限，我這里建立的是一個(gè)段數(shù)為4的球體，位置要保證不要進(jìn)入攝像機(jī)的范圍。這個(gè)物體要作為粒子發(fā)射的裝置。

　　　進(jìn)入創(chuàng)建物體面板下的digimation particles，選擇sandblaster，在視圖中放置一個(gè)sandblaster圖標(biāo)。一般說來sanblaster圖標(biāo)的方向和位置對于粒子運(yùn)動(dòng)的方向有很大影響，不過本例中沒有應(yīng)用到這個(gè)特性。

　　　進(jìn)入修改面板中sanblaster的面板，在setup欄中點(diǎn)擊set emitter，在視圖中點(diǎn)擊或者利用selet by name工具選中作為發(fā)射器的球體。之后點(diǎn)擊set target選擇文字來作為目標(biāo)。拖動(dòng)面板你會(huì)發(fā)現(xiàn)沒有任何的粒子被發(fā)射出來？哪里做錯(cuò)了？不要緊張，看到下面的particle activation選擇框了嗎？選中它，之后粒子就能發(fā)射出來了。好了，暫時(shí)先關(guān)掉它吧，我們繼續(xù)設(shè)置下面的參數(shù)。

　　　進(jìn)入emitter設(shè)置欄，設(shè)置begin emission為0，end emission為0，chaos為0，將start speed和variation也設(shè)為0，這幾個(gè)參數(shù)都關(guān)系到物體發(fā)射粒子的狀態(tài)。begin emission是發(fā)射（分裂）開始的時(shí)間，end emission是發(fā)射結(jié)束的時(shí)間，而chaos則設(shè)定了物體分裂的變化性。chaos值越高，物體分裂時(shí)的變化越大。start speed是物體發(fā)射時(shí)的初始速度，variation則控制了速度的變化，以使每個(gè)粒子的運(yùn)動(dòng)呈現(xiàn)出多樣性。

　　　由于這個(gè)例子中物體分裂不是我們所要表現(xiàn)的，所以把這些都設(shè)為0。接下來進(jìn)入target欄，將begin assembly設(shè)為10，end assembly設(shè)為90，influence設(shè)為10，將assembly direction設(shè)為left - right，particle location設(shè)為target simulation begin assembly是聚合開始的時(shí)間，end assembly是聚合結(jié)束的時(shí)間，這兩個(gè)值定義了聚合過程在時(shí)間軸中的位置，influence值很有用，它控制了在開始聚合之前多少幀粒子開始向目標(biāo)物體移動(dòng)，而在這之前你甚至可以使用deflector使粒子停止運(yùn)動(dòng)，而在influence的時(shí)間段內(nèi)粒子就變成不可阻止的了。

　　　assembly direction定義了物體的聚合由哪個(gè)方向開始，比如從上到下或者從前向后等等。particle location則定義了聚合以哪種形式進(jìn)行，其中只有target simulation會(huì)進(jìn)行物體的拆分和重建，不過這并不代表其他的幾個(gè)方式不重要。

　　　接下來我們可以激活particle activation，這時(shí)候拖動(dòng)時(shí)間或者播放就可以看到粒子逐漸聚合成物體的運(yùn)動(dòng)。如果你的模型并沒有按我所說那樣分割成許多小面，那么在動(dòng)畫播放的時(shí)候你會(huì)感到跳幀得厲害（除非你的機(jī)器速度非�？�，反正我的2500+是不行了。intel的cpu可能會(huì)好些，畢竟它的整數(shù)運(yùn)算更快）。這時(shí)候就要用animation菜單下的make preview來生成avi觀看了。不過你會(huì)發(fā)現(xiàn)效果是很不細(xì)膩的。

　　　如果粒子數(shù)太少看得不過癮，可以把particle parameters下的viewport中的particle count數(shù)值調(diào)高些(5000應(yīng)該是沒什么問題的），這個(gè)數(shù)值是用來調(diào)整視圖中粒子的數(shù)量的。如果你對粒子運(yùn)動(dòng)的狀態(tài)還滿意的話，那么讓我們進(jìn)入下一步。

這一步我們來創(chuàng)建替帶粒子的物體。sb提供給我們?nèi)�種缺省的物體作為粒子的形狀：screens(4頂點(diǎn)2面）pyramids（4頂點(diǎn)4面）spheres（12頂點(diǎn)20面），如果你對這些粒子的形狀都不滿意的話，可以自己創(chuàng)建物體來替帶缺省的粒子（可以做物體的集群動(dòng)畫，比如魚群）。我們這里創(chuàng)建一些0與1組成的數(shù)字，然后把它extude成塊，然后用multires修改器來減少一些面。也許你會(huì)覺得減少幾個(gè)面沒什么用，但是當(dāng)渲染的時(shí)候數(shù)量龐大的例子會(huì)為場景產(chǎn)生出海量的面數(shù)，到時(shí)候很可能系統(tǒng)就被拖垮，所以做好優(yōu)化是必要的。

　　　把這些數(shù)字用group成組，然后在sandblaster控制面板的render項(xiàng)下設(shè)置particle count數(shù)量為2000（這是render時(shí)的粒子數(shù)量），點(diǎn)擊set group particle shape選擇我們制作的數(shù)字作為粒子形狀（set particle shape是選擇單個(gè)物體的）。之后將particle scale設(shè)為0.5，這是設(shè)置作為粒子的物體縮放為原來多少的數(shù)值，如果你的形狀做得大，就把這個(gè)數(shù)值改小點(diǎn)，總之要和場景相協(xié)調(diào)。scale variation設(shè)為0.1，這個(gè)是使粒子的大小有些變化，看起來更自然。

　　　particle orientation設(shè)為facing，這會(huì)迫使粒子物體的第一個(gè)面始終面向視點(diǎn)。其他兩項(xiàng)可以查看幫助來了解。

　　　下面我們給物體賦一個(gè)材質(zhì)，選中目標(biāo)文字指定一個(gè)材質(zhì)球。我這里就給了一個(gè)黑色材質(zhì)，如果你愿意可以賦你喜歡的任何材質(zhì)。

　　　目標(biāo)材質(zhì)賦完了，那么粒子的材質(zhì)怎么辦。sandblaster允許你讓粒子來繼承目標(biāo)物體或者發(fā)射物體的材質(zhì)，在target欄中的material and mapping下選中master和use target，這會(huì)使粒子使用target物體的材質(zhì)。另外還要把emitter欄中的material and mapping設(shè)為slave。利用這個(gè)面板可以作出材質(zhì)的變化，具體參看幫助文件。

　　　好了，現(xiàn)在我們來渲染看看。但是之前還要做一個(gè)設(shè)置，勾選paruicle activation下的render activation，這樣才能把粒子渲染出來。